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研討會

9月11日GaN on Silicon台日技術交流研討會

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  • 活動日期: 2009年9月11日08:30~17:00
  • 活動地點: 工研院中興院區78館209會議室(新竹縣竹東鎮中興路四段195號)
  • 主辦單位: 財團法人工業技術研究院 電子與光電研究所
  • 報名費用: 全額免費,由經濟部工業局補助(含研討會講義、午餐及茶水)
  • 聯絡人姓名: 黃依萍 小姐
  • 聯絡人電話: (03)591-8405
  • 聯絡人傳真: (03)591-5138 / (03)582-0258
  • 聯絡人Email: huangyipin@itri.org.tw

目前商品化之氮化鎵系半導體光電元件技術均以藍寶石(Al2O3)與碳化矽(SiC)基板為主,且關鍵專利大多掌握在日本、美國和德國廠商手中,鑒於專利與材料方面的種種問題,因此開發關鍵性GaN on Silicon磊晶技術,方能擺脫關鍵原料、技術受制於美日的困境。以矽半導體成長氮化鎵磊晶薄膜有著低成本、大面積與高導電(熱)基板等優勢;此外,以矽作為LED封裝基板,不但滿足未來高功率LED低熱阻的封裝需求,也可減少封裝尺寸,具有較高的信賴性。是故,透過開發高品質大尺寸GaN on Si技術,將可進一步與高度成熟的矽半導體產業結合成光電積體電路,並藉以開發高效率、大面積、低成本之白光LED作為新世代照明光源,進階提升國內產業技術研發效率、縮短研發成果落實至產業界時程,創新我國產業之另一利基優勢。
為此工研院電光所特舉辦本次研討會,活動中將聘請到日本原名古屋大學Sawaki教授與國內產學專家進行演講,透過難得之台日技術交流,期許建立國內LED元件自主研發能力,精采可期之活動內容,誠摯歡迎相關技術產業先進踴躍報名參加。

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